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清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量
时间:2024-04-30 22:11:37
栏目:财经
清溢光电4月30日在互动..表示,使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量,但不会机械式增加太多,具体增加数量依据客户自身工艺而定。
文章转载自:界面新闻网 非本站原创
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